<u id="8seky"><tt id="8seky"></tt></u><menu id="8seky"><tt id="8seky"></tt></menu>
  • <nav id="8seky"><tt id="8seky"></tt></nav>
    <nav id="8seky"></nav><dd id="8seky"></dd>
  •  
    best@bestgas.com?
    400-100-5278???
    ?浙江省杭州市富陽區新登新區貝山路58號???
    集團首頁
    集團簡介
    產品中心
    企業設施
    企業資訊
    聯系我們
    工業瓶裝氣體
    高純電子氣體
    行業標準氣體
    電光行業氣體
    液態工業氣體

    氣體在半導體外延中起到的作用


    外延生長實際上主要是一個化學反應過程。硅外延生長使用的主要氣源是氫氣和氯硅烷類,如四氯化硅(SiCl4)、三氯甲硅烷(SiHCl3)和二氯甲硅烷(SiH2Cl2)。另外,為了降低生長溫度,也經常使用硅烷作為氣源。選擇使用哪種氣源主要由生長條件和外延層的規格來決定的,其中生長溫度是選擇氣源種類時要考慮的最重要因素。硅外延層生長速度和生長溫度的關系。?

    醫用行業氣體
    消防行業氣體
    能源行業氣體
    食品行業氣體
    MORE
    超高純氣體

    欧美 亚洲 图片 日韩